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reactive ion etch

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反应离子刻蚀：一种半导体制造过程中用于刻蚀材料表面的技术，通过使用反应性气体和离子束来去除材料的一部分。

网络释义

活性离子腐蚀

Reactive Ion Etch(活性离子腐蚀), 此释义来源于网络辞典。

离子蚀刻

最具广泛使用的方法便是结合物理性蚀刻与化学反应性蚀刻，即所谓的活性离子蚀刻(RIE, Reactive Ion Etch)，此种蚀刻方式兼具非等向性及高选择比等双重优点，蚀刻的进行主要靠化学反应来达成，以获得高选择比。

常用短语

reactive ion etch resistance耐活性离子腐蚀性
reactive ion etch system活性离子腐蚀系统
Magnetron Reactive Ion Etch磁电管反应离子刻蚀
Reactive ion etch mode反应性离子蚀刻型
Deep Reactive Ion Etch深度反应离子刻蚀；深度反应离子蚀刻
reactive ion beam etch活性离子束腐蚀
Reactive Ion Etch-RIE平行电极刻蚀反应室
RIE-Reactive Ion Etch反应离子刻蚀

更多常用短语

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