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double patterning

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双重曝光技术：一种半导体制造技术，通过将一个芯片图案分成两个部分，分别进行曝光和显影，最终将两个部分合并成一个完整的芯片图案。

双重图形

*2 双重图形 (Double Patterning)是将高密度的电路图形分割为两片低密度的光掩模进行露光处理的方法。

双重曝光

...终将到来，但在制造上会面临更多挑战，包括阶梯覆盖(step coverage)、FIN尺寸的控制、在多个层上使用双重曝光(double patterning)，甚至需要使用四重曝光等。

两次图形曝光

另外，尺寸仅为0.15平方微米的高密度SRAM工艺采用了两次图形曝光(double patterning)的193nm浸润式光刻技术。

曝光技术

...尚未释出实际建厂进度外，晋华于2016年底开始动土，2018下半年才有机会进行试产，此外25nm需用双重曝光技术（Double Patterning）及浸润式曝光机（ArF-immersion），制程难度大幅提升，将影响实际产能开出的进度。

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